檢索結果:共2筆資料 檢索策略: "氧化銅".ckeyword (精準) and ckeyword.raw="濺鍍"
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本研究以反應式離子束濺鍍法於SiO2及玻璃基板上以三種氬氧氣體比例在基板溫度300C下沉積氧化銅及摻鋁氧化銅薄膜,探討氣體流量及摻鋁濃度(0~10 at.%)對所沉積薄膜之影響。研究結果顯示當…
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本研究利用RF磁控濺鍍法在低沉積溫度下製備光電陰極及光電陽極之薄膜。 在光電陰極的部分本研究利用矽基板為基材,對其以磁控濺鍍法進行 In2O3 薄膜披覆,其主要目的是希望在酸性電解液中有優異的析氫能…